DLI-CVD 和 DLI-ALD 沉积系统

产品信息

DLI-CVD 系统

DLI-CVD 和 DLI-ALD 沉积系统

MC-100

100 毫米（4 英寸）DLI-CVD / DLI-ALD 沉积系统

MC-100 是一款 4 英寸（100 毫米）直接液体喷射沉积系统，可以在同一处理室内执行 CVD、ALD、脉冲压力 CVD。应用包括氧化层（如 LiNbO3）的外延。

简单和多金属氧化物

金属、氮化物和合金

III-V族，宽带隙半导体

2D 和 3D 材料

ETC。